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“我们研究这一过程通过光刻来实现，”
“光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平”
“我们的芯片在生产中需要进行 20-30 次的光刻，”
“耗时占到 Ic 生产环节的 50%左右，占芯片生产成本的1\/3 ”
“光刻机为了在国际市场上方便交流我们给他赋予了一个英文名字”
“lithography”
“光刻机我们又别名的叫他，掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统”
“ 我们全球半导体集团经过长期的研究才成功的研发出来了光刻机”
“他的工作原理是在诸如硅片的基底表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，”
“再采用特定光，”
“一般来说是紫外光、深紫外光、极紫外光透过包含目标图案信息的掩模版照射在基底表面，”
“在被光线照射到的光刻胶会发生反应，”
“因此，在显影后被照到的区域会产生与未被照到的区域不同的效果”
“当然这种情况也是主要依赖于光刻胶的性质来决定的”
“张成先生这么说这个光刻机用到的光刻胶是很关键的东西了?”
“是的，麦斯先生”
“这种光刻胶是我们全球半导体集团历经千辛万苦的才实验研发成功的”
在两人对话的时候，在队伍中有个人忽然之见恍然大悟了。
这个人就是美国光刻机的研发公司派来混在这次到访的队伍中的一员。
他是美国光刻机公司通过关系插入进去的。
而他的使命就是了解清楚全球半导体集团的光刻机工作原理。
所以张成说的光刻胶的时候他作为一个专业人士立马就理解了。
才恍然大悟的。
之前自己等人是走入死胡同了，这才在光刻机的研发上走入了奇道的才说是被中国人超越了 。
“张成先生麻烦问一下你能不能够给我们介绍一下这种光刻胶?”
“可以的麦斯先生”
“ 光刻胶是聚合物和一些化合物的混合物”
“这种化合物是我们经历了无数次的实验调和而成的”
“在这种化合物中最重要的是一种光致酸产生剂”
“英文名字叫做photo Acid Generator, pAG”
“每当光子打到pAG上”
“会产生一种酸，”
“这种酸会与聚合物发生反应，将聚合物分解，这样聚合物就会被显影液溶解 ”
“显影液也就是英文名字”
“developer ”
“这种光刻机也是有着种多样的”
“麻烦你介绍一下”
“好的，麦斯先生”