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第97章 配制光刻胶 (第3/3页)

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节了,请问光刻机在哪里呢?”

“大家还是洗洗继续睡吧,哪有什么光刻机,全都在做梦而已。”

“想不通有必要这么着急吗,人家说的明明是春节前后,现在质疑什么。”

“后十几年也算后,玩文字游戏没啥用。”

“当你们还在为此争议质疑的时候,聪明人已经全部梭哈半导体行业基金了。”

“真尼玛狠人啊,都这种局面了还敢梭哈基金,我没记错相关行业已经连续跌几天了吧。”

……

在众多的评论留言中,虽然有些愿意相信国产光刻机,可在海量的质疑声潮中翻不起任何浪花。

完全不起眼。

而相比外界的风起云涌,此刻徐磊则是两耳不闻窗外事,一心全在光刻胶。

“主体材料必须要尽量减少高吸收元素,引入特殊金属氧化物提高光刻的感光速度,增强体系抗蚀能力,降低光刻胶的膜厚,最终进一步提升分辨率。”

“这次应该没什么问题了。

“只要顺利完成,就能配制出和顶级光刻机相适合的光刻胶。”

2020年1月24日,周五。

除夕夜。

华科院化学实验室内。

此刻徐磊穿着实验操作服,站在工作台旁摆弄着上面的各种精密仪器。

虽说看不到其具体神情如何,但从口中低喃的声音来判断,他这次是胸有成竹。

随后在几名助手的配合下,特殊金属氧化物被引入体系材料中,并在设备的自动运作下,逐渐形成可以直接涂抹在晶圆片上的光刻胶。

不过究竟能否达到想要的效果,成功生产出3纳米规格的芯片,还需要拿到光刻机那边实际测试才行。

至于被称作物理极限的1纳米芯片,因为所需的特殊金属材料还未运送过来,所以暂时还无法生产。

但可以确定的是,这个春节大家虽然都没有回家,却肯定是几十年来最开心兴奋的一天。

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